Cecair Cyclohexane CAS 110-82-7 Sebagai Pelarut Photoresist

Penerangan Produk

Apakah Cyclohexane?

Sikloheksana ialah pelarut organik yang tidak berwarna dan tidak menentu dengan tegangan permukaan yang rendah dan keterlarutan yang tinggi. Nombor CASnya ialah 110-82-7, nombor EINECS ialah 203-806-2, formula kimia ialah C₆H₁₂, berat molekul ialah 84.16. Ketumpatan ialah 0.77, takat lebur ialah 6.5 darjah, takat didih ialah 81 darjah. Takat kilat ialah -18 darjah, hampir tidak larut dalam air, tekanan wap pada 37.7 darjah ialah 168.8 mmHg, ketumpatan wap berbanding udara ialah 2.9.

Maklumat Asas

Kegunaan

Sikloheksana mempunyai kelebihan berikut sebagai pelarut fotoresist:

• Keterlarutan yang baik: Ia mempunyai keterlarutan yang baik untuk pelbagai komponen seperti resin dan fotosensitizer dalam photoresists, dan boleh membuat komponen ini tersebar secara sama rata dalam larutan untuk membentuk sistem photoresist yang stabil dan seragam, yang kondusif untuk pembentukan seterusnya filem rintangan seragam pada substrat.
• Takat didih dan kemeruapan rendah: Takat didihnya adalah kira-kira 81 darjah, yang agak rendah. Selepas photoresist disalut, ia boleh menguap dengan cepat, supaya filem rintangan dapat dikeringkan dengan cepat, memendekkan masa pemprosesan dan meningkatkan kecekapan pengeluaran. Selain itu, semasa proses fotolitografi, ketepatan tindak balas fotokimia dan pemindahan corak tidak akan terjejas oleh sisa pelarut.
• Kestabilan kimia yang tinggi: Ia mempunyai kestabilan kimia yang tinggi, tidak mudah bertindak balas secara kimia dengan komponen dalam fotoresist, dan tidak mudah terurai atau merosot di bawah keadaan cahaya, pembangunan, dan lain-lain semasa proses fotolitografi. Ia boleh memastikan kestabilan prestasi photoresist dan memastikan kualiti dan ketepatan corak fotolitografi.
• Ketegangan permukaan rendah: Cyclohexane mempunyai tegangan permukaan yang rendah, yang membolehkan penyelesaian photoresist menyebar dengan lebih baik pada permukaan substrat semasa salutan, membentuk filem rintangan yang seragam dan rata, yang bermanfaat untuk meningkatkan resolusi fotolitografi dan mengurangkan kecacatan corak yang disebabkan oleh ketebalan filem yang tidak rata atau permukaan yang tidak rata.
• Keberkesanan kos-: Ia adalah pelarut organik yang agak biasa dan murah dengan pelbagai sumber. Apabila-menghasilkan fotoresist secara besar-besaran, menggunakan Cyclohexane sebagai pelarut boleh mengurangkan kos pengeluaran dan mempunyai kepraktisan ekonomi yang baik.

Maklumat Keselamatan

Jauhkan daripada sumber pencucuhan.
Elakkan terkena mata.
Ambil langkah berjaga-jaga untuk mengelakkan penjanaan elektrik statik.
Buang bahan ini dan bekasnya sebagai sisa berbahaya.
Elakkan pelepasan ke persekitaran. Rujuk Arahan Khas/Lembaran Data Keselamatan.
Jika tertelan, jangan paksa muntah; dapatkan nasihat perubatan dengan segera dan tunjukkan bekas atau label.
Simpan bekas di-tempat yang mempunyai pengudaraan yang baik.

Profil Syarikat

Gneebioialah sebuah perusahaan yang mengkhusus dalam penyelidikan, pembangunan, pengeluaran dan penjualan fitokimia dan bahan kimia halus. Kilang kami telah ditubuhkan pada 2016 dan terletak di Wilayah Henan, meliputi kawasan seluas 3,600 meter persegi. Kami mempunyai pasukan R&D yang profesional,-dilengkapi dengan baik dan-berkualiti tinggi dengan lebih daripada 10 tahun pengalaman R&D. kamireagenproduk dieksport secara meluas ke banyak negara termasuk Amerika Syarikat, Rusia, Kanada, Australia, Eropah, dll., dan kami menyediakan perkhidmatan penghantaran cepat kepada pelanggan kami. Kami berharap dapat mewujudkan kerjasama-panjang dan saling menguntungkan dengan lebih ramai rakan pada masa hadapan dan menyediakan produk dan perkhidmatan terbaik untuk pelanggan kami.

Produk popular kami termasuk Bahan Kimia Organik:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Phenyliodosohydroxy Tosylate, pemangkin:CAS 110-02-1 Thiophene, antara lain.

Hubungi Kami

Soalan Lazim