Hafnium Silisid (HfSi2)ialah silisid logam peralihan, sejenis sebatian antara logam refraktori. Kerana sifat fizikal dan kimianya yang unik, ia digunakan dalam cermet, salutan tahan pengoksidaan suhu tinggi, bahan struktur suhu tinggi dan penerbangan, aeroangkasa, dan bidang lain. Untuk menghalang pengoksidaan, meningkatkan rintangan hakisan matriks dan mengimbangi kecacatan selepas ablasi, HfSi2 boleh digunakan sebagai sumber Hf untuk sintesis in-situ HfC.
Hafnium Silicid HfSi2 Nanopowder menggunakan
Semikonduktor: Digunakan dalam peranti CMOS untuk meningkatkan prestasi dalam aplikasi kuasa tinggi dan frekuensi tinggi.
Salutan: HfSi2 digunakan dalam filem nipis untuk elektronik untuk meningkatkan ketahanan dan kefungsian.
Komponen Struktur: Dalam industri seperti aeroangkasa, ia membantu mencipta komponen yang boleh menahan suhu tinggi.
Pemanasan Elektrik: Kekonduksian terma yang tinggi menjadikannya sesuai untuk elemen pemanasan dalam aplikasi perindustrian.
Bahan termoelektrik: HfSi2 boleh digunakan untuk meningkatkan kecekapan tenaga sistem termoelektrik.
Solar: Ia juga boleh digunakan dalam sistem fotovoltaik untuk meningkatkan kecekapan.
Pemangkinan: HfSi2 mempunyai sifat yang menyokong proses kimia pemangkin.